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ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片

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最近ASML(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值孔径透镜。相比于之前的Twinscan NXE:3600D,性能有了进一步的提高,可以支持未来几年3nm及2nm芯片的制造。 在ASML看来,Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻技术在性能(每小时处理的...
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现场图曝光!ASML第一台2nm光刻机正式交付Intel

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近日,荷兰光刻机巨头ASML公司宣布,优先向Intel公司交付其新型高数值孔径(High NA EUV)的极紫外光刻机。 据悉,每台新机器的成本超过3亿美元,可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。 ASML官方社交媒体账号发布了一张现场照片。图可以看到,光刻机的一部分被放在一个保护箱中。箱身绑着一圈红丝带,正准备从其位于荷兰埃因霍温的总部发货。 &#...
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