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科技

三星仍需解决3nm工艺良品率问题 目前在50%附近徘徊

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近年来,良品率一直是三星晶圆代工业务所要面对的最大问题。特别是在3nm制程节点上,三星率先引入了全新的下一代GAA(Gate-All-Around)架构晶体管技术,与以往使用的FinFET晶体管技术有着较大的区别,也使得良品率问题进一步放大。 三星目前3nm工艺的良品率在“50%附近”徘徊,在良品率方面依然有一些问题需要解决。不过这次的消息里,没有具体说明到...
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游戏

台积电3nm工艺已在路上:更高能效比 2022年量产

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HardwareInfo消息,2021年国际固态电路会议(ISSCC)于上周开始。在这次活动中,台积电(TSMC)董事Mark Liu博士就公司即将推出的3nm工艺的进展作了演讲。此外,还讨论了一些有助于未来流程的性能和效率改进的技术。 台积电董事长Mark Liu Liu重申N3的发展已步入正轨,但批量生产今年尚未开始。如果一切按计划进行,则大规模生产将在...
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