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三星仍需解决3nm工艺良品率问题 目前在50%附近徘徊

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近年来,良品率一直是三星晶圆代工业务所要面对的最大问题。特别是在3nm制程节点上,三星率先引入了全新的下一代GAA(Gate-All-Around)架构晶体管技术,与以往使用的FinFET晶体管技术有着较大的区别,也使得良品率问题进一步放大。 三星目前3nm工艺的良品率在“50%附近”徘徊,在良品率方面依然有一些问题需要解决。不过这次的消息里,没有具体说明到...
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