ASML宣布英特尔已使用High-NA EUV光刻技术

一、技术突破与产品亮点

ASML宣布，英特尔正在Intel 18A工艺上采用High-NA EUV光刻技术，生产部分代号“Panther。Lake”的第三代酷睿Ultra系列处理器，成为了业界首个采用High-NA。

据了解，EUV光刻技术大规模生产逻辑芯片的企业。目前英特尔位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Intel 18A生产线已完成High-NA。EUV双重认证，良品率达到了现有NXE EUV平台的水平。

分析指出，ASML表示，过去数十年里，与英特尔一直保持紧密合作推动光刻技术的发展，并支持半导体的持续扩展。High-NA。

二、市场影响与趋势分析

EUV是极紫外光刻技术发展历程里非常重要的下一步，旨在为先进芯片制造提供更精确的图案化能力。未来双方将在High-NA。EUV技术准备方面继续展开密切合作，并根据客户需求灵活将其整合到未来制程节点中。

据了解，2023年末，ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN。EXE:5000的系统。英特尔将其作为试验机，于2024年4月在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab。

分析指出，D1X完成安装。提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高，可以实现更高分辨率的图案化，以实现更小的晶体管特征。